STI ナノスフィア UVベース（日焼け止め下地）

販売価格

4,070円（税込）

30g　日焼け止め下地　SPF40 PA+++

均一でなめらかな艶肌が続く肌へのやさしさにこだわったスキンケア発想のUVケア
エイジングケア＊１ とUVケアを両立させた日焼け止め下地。
紫外線をカットし日焼けによるシミそばかすを防ぎます。
＊１ 年齢に応じたケアのこと

肌悩み・効果

・乾燥肌
・UVケア
・エイジングケア＊１
＊１ 年齢に応じたケアのこと

ご使用方法

顔にご使用になる際は化粧水、クリームなどで肌を整えた後に指先に適量をとり、ムラなくやさしくなじませます。ご使用量が少ないと、十分な紫外線防御効果が得られません。汗をかいたり、タオルで拭いた後などは必要に応じて塗りなおしてください。

主要成分

【ナノスフィア®を構成するビタミン誘導体】
・ＧＯ-ＶＣ®
両親媒性ビタミンＣ誘導体(カプリリル２-グリセリルアスコルビン酸)/整肌成分
・ＴＰＮａ
両親媒性ビタミンE誘導体(トコフェリルリン酸Ｎａ)/整肌成分
【ナノスフィア®に包接された美容成分】
・センチフォリアバラ葉細胞エキス/整肌成分
・パピルス葉細胞エキス/整肌成分
・シロバナワタカルス培養物/整肌成分
【その他整肌成分】
・フラーレン/整肌成分
※「TPNa」は株式会社レゾナックの登録商標です。

リニューアルポイント

きしみ感と白浮き感を低減し、より使いやすいテクスチャーに改良。
SPF40、PA+++
植物由来成分＊２、フラーレン＊３、ビタミンC/E誘導体＊４を配合。
＊２ ポルフィリジウム多糖体（整肌成分）
＊３ 整肌成分
＊４ カプリリル２－グリセリルアスコルビン酸（整肌成分）、パルミチン酸アスコルビルリン酸3Na（整肌成分）、（アスコルビル／トコフェリル）リン酸Ｋ（整肌成分）、テトラヘキシルデカン酸アスコルビル（整肌成分）、トコフェリルリン酸Ｎa（整肌成分）

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